Anell d'aïllament PVD d'alúmina per a sistemes de deposició física de vapor

L'anell d'aïllament PVD de St.Cera està fabricat amb un 99,8% d'alúmina d'alta puresa (Al₂O₃) per al seu ús en sistemes de deposició física de vapor (PVD). L'anell proporciona aïllament elèctric entre els components de la cambra, evitant la formació d'arcs i garantint un funcionament estable del plasma. Les propietats clau inclouen una alta resistència dielèctrica (15×10⁶ V/m), una resistència específica >10¹⁴ Ω·mm²/m i una estabilitat tèrmica de fins a 1600 °C. Les nostres capacitats de mecanitzat de precisió aconsegueixen diàmetres exteriors de fins a 600 mm, diàmetres interiors de fins a 0,2 mm, una planitud de 0,003 mm i un acabat superficial Ra0.1. La porositat zero i la inertícia química de l'anell garanteixen una fiabilitat a llarg termini en entorns de pulverització catòdica agressius.

Especificacions (basades en un 99,8% d'Al)₂O₃i capacitats de fabricació de St.Cera):

Aplicacions:

• · Aïllants de placa de suport de diana en sistemes PVD
• · Aïllants de pas de cambra
• · Aïllants d'anell de blindatge en sistemes de pulverització catòdica
• · Aïllament d'alta tensió en cambres de plasma

Precisió de fabricació:

Concentricitat: 0,01 mm, rodonesa: 0,002 mm, rectitud: 0,005 mm, perpendicularitat: 0,005 mm, verificada per CMM.

AAvantatges sobre els aïllants de polímer:

• · Suporta 1600 °C en comparació amb el límit de <300 °C del polímer
• · Sense desgasificació: manté la integritat del buit
• · Resisteix l'erosió del plasma i l'atac químic

Personalització:

Seccions transversals personalitzades, característiques de muntatge, perfils esglaonats i múltiples dissenys d'anells concèntrics disponibles.